Skartoċċ tal-filtru tat-titanju poruż 1um għall-ipproċessar imxarrab tas-semikondutturi

Skartoċċ tal-filtru tat-titanju poruż 1um għall-ipproċessar imxarrab tas-semikondutturi jagħti żamma assoluta-rata tal-partiċelli f'ambjenti kimiċi aggressivi fejn il-membrani tal-polimeru jintefħu jew jiddegradaw. Fabbrikat minn trab tat-titanju ta 'purità għolja -industrijali akbar minn jew ugwali għal 99.4% permezz ta' ippressar isostatiku kiesaħ u sinterizzazzjoni tal-vakwu ta '-temperatura għolja, dan il-filtru sinterizzat ta' trab tal-metall jikseb struttura mikroporuża uniformi b'porożità li tvarja 30-40% u distribuzzjoni tad-daqs tal-pori dejqa. Fil-filtrazzjoni tad-dekarbonizzazzjoni tal-produzzjoni farmaċewtika API, il-filtru tal-virga tat-titanju sinterizzat ta '1μm jaqbad residwi ta' karbonju attivat fini u katalist multa minn likuri omm ta '-viskożità għolja, b'kapaċità ta' backwash li tista 'terġa' tintuża li testendi l-ħajja tas-servizz bosta drabi lil hinn mill-alternattivi tal-membrana. Il-fabbrikazzjoni tas-semikondutturi tal-proċess imxarrab-tintegra trab tat-titanju 1um filtri sinterizzat f'linji ta 'konsenja kimiċi għal SC-1, SC-2, 49% HF, u HNO₃ streams, fejn is-sottostrat tat-titanju jirreżisti l-ħofor minn ambjenti rikki fil-klorur li jissaddad gradi tal-istainless steel. Il-klassifikazzjoni ta 'preċiżjoni 1um tneħħi l-partikuli li fihom is-silikon submicron u l-kontaminanti metalliċi mingħajr ma jitfgħu partiċelli, u żżomm il-purità tal-filtrat meħtieġa għall-ipproċessar tal-wejfer fuq skala nanometru.

L-applikazzjonijiet tal-linja tat-trattament tal-ilma ta 'purità għolja -skjeraw skartoċċ tal-filtru tat-titanju poruż 1um għall-ipproċessar imxarrab tas-semikondutturi bħala filtrazzjoni finali tas-sigurtà qabel is-sistemi ta' ultrafiltrazzjoni u EDI, fejn l-element sinterizzat tat-trab tat-titanju jiflaħ sterilizzazzjoni perjodika tal-ożonu u fwar-fi{{3}post ċikli sa 280 grad f'kundizzjonijiet. B'differenza mill-filtri tal-fond tal-polypropylene jew skrataċ tal-membrana PTFE li jrattbu jew jiddelaminaw taħt ċikliżmu termali, il-matriċi tat-titanju sinterizzat bil-vakwu-iżżomm l-integrità dimensjonali fil-medda ta 'pH 1-14 u tiflaħ pressjonijiet differenzjali sa 5.0 bar mingħajr kollass tal-istruttura tal-pori. Il-loops tal-illustrar tad-demel likwidu CMP f'fabs avvanzati jużaw skrataċ tal-filtru tat-titanju ta '1μm post-stadji ta' adsorbiment tar-reżina biex jaqbdu partiċelli ta 'daqs eċċessiv li joborxu agglomerati filwaqt li jippreservaw id-distribuzzjoni inġinerija tad-daqs tal-partiċelli ta' silika kollojdali jew slurries taċ-ċera. Il-karatteristika ta' nuqqas ta'-partiċelli u r-riġenerabbiltà onlajn permezz ta' backflushing jew tindif ultrasoniku jippermettu użu mill-ġdid ripetut, u jnaqqas il-frekwenza ta' sostituzzjoni tal-filtru u l-ispejjeż operattivi f'operazzjonijiet kontinwi tal-bank imxarrab tas-semikondutturi.

Klassifikazzjoni ta 'filtrazzjoni ta' preċiżjoni - L-iskartoċċ tal-filtru tat-titanju poruż 1um jagħti żamma ta 'partiċelli assoluta-ratata f'linji ta' pproċessar imxarrab tas-semikondutturi, tneħħi residwi tas-silikon submicron, kontaminanti metalliċi, u partiċelli bħal ġel- minn kimiċi aggressivi inklużi HF, HNO₃, SC-1, u SC-2 mingħajr breakthrough.

Reżistenza għall-korrużjoni f'meded estremi ta 'pH - Manifatturat minn trab tat-titanju ta' purità ogħla jew ugwali għal 99.4% permezz ta' sinterizzazzjoni bil-vakwu, dan l-iskartoċċ tal-filtru tat-titanju sinterizzat jiflaħ ambjenti ta 'pH 1-14, jirreżisti l-attakk tal-pitting u tal-klorur li jiddegrada malajr il-filtri ta' l-istainless steel jew is-sistemi ta' distribuzzjoni ta' Wettelloy.

Stabbiltà termika għolja għal ċikli DIW u SIP sħan - Il-filtru sinterizzat tat-trab tat-titanju jiflaħ tħaddim kontinwu f'280 grad f'kundizzjonijiet imxarrba, jappoġġa l-isterilizzazzjoni tal-fwar -in-post (SIP) u tlaħliħ bl-ilma sħun dejonizzat mingħajr trattib, delaminating, jew lissija estrattibbli tal-membrana komuni għall-polypropylene cartridges.

No particle shedding – Unlike depth filters or wound cartridges, the rigid sintered metal structure eliminates fiber release or media migration, maintaining ultrapure filtrate essential for nanometer-scale wafer fabrication where any foreign particle >0.5μm jikkawża difetti fatali fl-apparat.

Riġenerabbiltà eċċellenti tal-backwashing - L-iskartoċċ tal-filtru tat-titanju poruż 1um jappoġġja backflushing onlajn, tindif ultrasoniku u riġenerazzjoni tal-aċidu, it-tneħħija ta 'solidi maqbuda u r-restawr tar-rati tal-fluss inizjali fuq għexieren ta' ċikli ta 'użu mill-ġdid, tnaqqas b'mod sinifikanti l-frekwenza ta' sostituzzjoni tal-iskartoċċ u l-ispejjeż operattivi f'-fabs ta 'volum għoli.

Tolleranza ta 'pressjoni differenzjali għolja - Vacuum-matriċi tat-titanju sinterizzat iżżomm l-integrità tal-istruttura tal-pori taħt pressjonijiet differenzjali sa 5.0 bar, li jaqbżu l-filtri tal-membrana li jikkollassaw jew jinkisru waqt flussi ta' żieda qawwija jew avvenimenti ta 'imblukkar f'tagħmir tal-ipproċessar imxarrab tas-semikondutturi.

Linji ta' distribuzzjoni kimiċi ta' purità għolja-f'fabs tal-wejfers - Installat f'kaxxijiet tal-filtri tal-punt--użu (POU) għal 49% HF, HNO₃, NH₄OH, H₂SO₄, u HCl flussi, il-1um sinterizzat titanju filtru skartoċċi tal-filtru tal-partikulati u skartoċċi metalliċi neħħiet il-partikulati benniċi u metalliċi proċessuri wafer-wafer.

Loops ta' riċirkolazzjoni ta' ilma dejonizzat ozonizzat (DIO₃) – Applikati bħala filtrazzjoni ta' sigurtà f'għodod ta' tindif ta' wara-CMP u ta' tqaxxir ta' fotoresist. L-iskartoċċ tat-titanju poruż 1um jirreżisti konċentrazzjonijiet ta 'ożonu sa 20 ppm u espożizzjoni UV kontinwa, fejn il-filtri tal-polypropylene fragili u l-membrani PTFE jitilfu l-integrità mekkanika.

CMP slurry polishing loops – final polish and bulk removal – Positioned after slurry blending tanks and before dispense arms for colloidal silica, ceria, or alumina slurries. The sintered titanium filter traps over-sized agglomerates (>1um) filwaqt li tippreserva d-distribuzzjoni nattiva tad-daqs tal-partikuli u l-potenzjal zeta, iżżomm rata ta’ tneħħija konsistenti u fi ħdan-wejfer non--uniformità (WIWNU).

Post-Filtrazzjoni tal-ilma tal-iscrubber tal-kaxxa tal-brush CMP - Installat f'linji tal-ilma dejonizzati li jitimgħu pniezel PVA biex jerġgħu jinqabdu partiċelli li joborxu residwi u joni tar-ram wara l-illustrar tal-wejfer. Il-klassifikazzjoni assoluta 1um tipprevjeni mikrogrif fuq ir-ram u uċuħ dielettriċi baxxi-k waqt il-kuntatt tal-pinzell.

Filtru tas-sigurtà finali tal-loop tal-illustrar tal-ilma ultrapur (UPW) – Pożizzjonat qabel il-valvi tal-punt-tal--użu (POU) fi stazzjonijiet tal-inċiżjoni mxarrba u tat-tlaħliħ. L-iskartoċċ tal-filtru tat-trab tat-titanju jaħdem f'UPW sħun (80 grad) u ċikli perjodiċi ta 'sterilizzazzjoni bil-fwar mingħajr ma jitfa' partiċelli, iżżomm kontroll tal-batterja u għadd ta' partiċelli taħt ir-rekwiżiti tal-klassi 1.

Banjijiet tal-kisi tan-nikil u tal-kobalt bla elettroli għal saffi ta 'barriera/żerriegħa - Integrati fi skids tal-purifikazzjoni tal-banju tal-kisi biex titneħħa l-kontaminazzjoni tal-partikuli minn stabilizzaturi u aġenti kumplessanti. Il-matriċi tat-titanju reżistenti għall-korrużjoni-topera f'temperaturi elevati (70-90 grad ) u pH alkalin mingħajr fraġilità tal-idroġenu jew kontaminazzjoni tal-banju.

Tel: 0917-3873009

Telefon: +86 18992731201

Email:zhangjixia@bjygti.com

Fax: 0917-3873009

Indirizz: Nru. 195, Gaoxin Avenue, Żona ta' Żvilupp ta'-teknoloġija għolja, Baoji City, Shaanxi, iċ-Ċina

Whatsapp: +86 18992731201

It-tags Popolari: Skartoċċ tal-filtru tat-titanju poruż 1um għall-ipproċessar imxarrab tas-semikondutturi, iċ-Ċina, fornituri, manifatturi, personalizzati, użu, lista tal-prezzijiet, għall-bejgħ, fl-istokk, kampjun ħieles, materjal poruż